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最后更新：2015-03-10
關(guān) 注 度：3616
生產(chǎn)企業(yè)：上海紐邁電子科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
NMI20核磁共振造影劑馳豫率分析成像測(cè)試儀是一款經(jīng)典的小核磁，專為核磁共振造影劑研究應(yīng)用設(shè)計(jì)開發(fā)而成，該設(shè)備配套有造影劑專用弛豫時(shí)間測(cè)試軟件,磁共振成像軟件，可以直接測(cè)試得到不同濃度造影劑樣品的T1、T2弛豫時(shí)間，R1、R2弛豫速率以及造影劑樣品的弛豫效率r，并可完成T1加權(quán)成像，,T2加權(quán)成像和質(zhì)子密度加權(quán)成像。弛豫時(shí)間測(cè)試過程非常簡(jiǎn)單，樣品無需特別配置，軟件實(shí)現(xiàn)中英文雙語(yǔ)選擇界面，操作簡(jiǎn)便，易學(xué)易用。
技術(shù)指標(biāo)：
1、磁體類型：永磁體；
2、磁場(chǎng)強(qiáng)度：0.5±0.08T，儀器主頻率：21.3MHz；
3、探頭線圈直徑：15mm；
應(yīng)用解決方案：
1、Gd類，F(xiàn)e類，Mn類等核磁共振造影劑T1、T2弛豫時(shí)間測(cè)試，弛豫效率r測(cè)試；
2、不同濃度造影劑樣品成像，T1,T2加權(quán)成像，直觀評(píng)價(jià)造影效果；
3、細(xì)胞液弛豫測(cè)試與成像
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應(yīng)用案例一：四氧化三鐵，T2磁共振靶向造影劑弛豫率測(cè)試，磁共振成像測(cè)試
應(yīng)用案例二：Gd+ 類T1 磁共振造影劑測(cè)試實(shí)例，T1弛豫時(shí)間測(cè)試，T1加權(quán)成像
應(yīng)用案例三：不同濃度磁共振造影劑對(duì)比成像
注：儀器外觀如有變動(dòng)，以產(chǎn)品技術(shù)資料為準(zhǔn)。 |
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2006-07-14
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