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產(chǎn)品型號(hào)：SPIN150i
產(chǎn)品代碼：SPIN150i
產(chǎn)品價(jià)格：10000
產(chǎn)品編碼：SPIN150i
計(jì)量單位：套
折 扣 率： 9
最后更新：2016-12-27
關(guān) 注 度：3712
生產(chǎn)企業(yè)：武漢邁可諾科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹一、產(chǎn)品概述：
SPIN150i型勻膠機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列勻膠機(jī)具有穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟動(dòng)，可以保證半導(dǎo)體中膠厚度的一致性和均勻性，這正是SPIN150i型勻膠機(jī)的特點(diǎn)。
二、勻膠機(jī)工作原理：
勻膠機(jī)（spin coater）的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
三、勻膠機(jī)主要性能指標(biāo)：
1、腔體直徑：8英寸 (202 毫米)；
2、Wafer芯片尺寸：10-160mm直徑的材料，4英寸方片；
3、轉(zhuǎn)速范圍: 1~12000RPM**，±1rpm steps；
4、最大加速度：30000RPM/S；
5、轉(zhuǎn)速精度: ±0.1rpm；
6、程序段數(shù)：無(wú)限制；
7、操作步數(shù)：無(wú)限制；
8、旋轉(zhuǎn)時(shí)間：無(wú)限制*，±0.1 Second steps；
9、旋轉(zhuǎn)方向：順時(shí)針，逆時(shí)針，交換擺動(dòng)；
10、擴(kuò)展接口：1個(gè)USB接口；
11、馬達(dá)保護(hù)：20-50kPa,2-5l/min,Tube OD Ø 6mm（可關(guān)閉）；
12、排廢連接：1” M-NPT；
13、觸屏控制：全彩觸摸屏控制界面
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主營(yíng)產(chǎn)品：勻膠機(jī)，旋涂?jī)x，甩膠臺(tái)，勻膠臺(tái)，涂層機(jī)，涂膠機(jī)，涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC，SCE系列等離子清洗機(jī)， Cargille光學(xué)試劑，光刻機(jī)/曝光機(jī)，壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī)，WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)
Laurell勻膠機(jī) Harrick等離子清洗機(jī) PIE等離子清洗機(jī) NDK熱板烤膠機(jī) PlasmaEtch等離子處理系統(tǒng) Carver手動(dòng)壓片機(jī) Uvitron紫外固化箱 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp加熱板 Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng) NXQ光刻機(jī)
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| 加入時(shí)間：2016-12-27
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